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第2084章 沉浸式光刻理论

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光刻机巨头,英特尔、IBM、AMD、德州仪器,每天排队堵在尼康门口等待最新产品下线。

尼康甚至在非公开场合猖狂的扬言‘如果我们交不出光刻机,摩尔定律就会从此停止’。——这句话在十几年以后的赵长安的前一世,ASML也有样学样的说了这么一句话:“如果我们交不出EUV,摩尔定律就会从此停止。”

很显然,尼康这句狂妄至极的话,也深深的刺痛了欧美西方霸权们脆弱而又敏感的,猴子的红屁股一样的神经。

虽然迄今为止,尼康依然是光刻机行业的老大,然而以老m为首的西方财团,一直都在致力于利用风投,把天量的资金砸在欧美一些小型的新兴光刻机研发领域的企业上,期望能够培养出来一家由欧美人真正控制的世界一流的光刻机企业,至少也得和尼康打平,甚至反超式的碾压打压。

把这家不知道天高地厚,谁才是你得主子的小东阳的光刻机企业打垮,打的资不抵债的破产清盘机器都当破烂卖。

这样他们身为主子,看到不老实,眼睛里面没有一点的水儿,胆敢不识趣的想要在科技上超过主人的奴才倒霉,他们才会高兴的以舒心中块垒。

于是在老m钱针引线的主导下,西门子旗下一家成立了将近二十年,里面总共只有31个员工的合资小公司ASML,则被老m看中了,推出来站台。

集结大量欧美顶尖科研高校和一流半导体企业的力量,全力支持ASML研发新一代193nm制程以下的光刻机,去干翻不长眼的奴才。

在这个世界上的00年的十月,光刻机的光源波长依然被卡死在193nm已经有好几年。

尼康主张用在前代技术的基础上,采用157nm的 F2激光,走稳健道路。

而这一选择,其实有着很强烈的极限终极的意味,因为即使尼康成功的研发了157nm制程的F2激光光刻机,那么18到24个月以后呢,怎么还能研发这一类激光源已经到了极限的157nm制程天堑以下的光刻机?

新生的EUV LLC联盟则押注更激进的极紫外技术,在对未来的展望是用仅有十几纳米的极紫外光,刻十纳米以下的芯片制程。

也就是说,ASML现在正在研发的193nm制程以下的光刻机,使用极紫外技术,是光刻机领域一个新的征程的起点。

正在做着从零到一,从虚无到实质的尝试性跃迁。

假如能够成功,那么再从一到二,从二到三,则是顺


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